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        7. MOS管結(jié)構(gòu)|MOS管的IVcure解析介紹
          • 發(fā)布時(shí)間:2020-11-23 15:43:58
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          MOS管結(jié)構(gòu)|MOS管的IVcure解析介紹
          MOS管的結(jié)構(gòu)
          以N溝道橫向MOS管為例,其結(jié)構(gòu)如下圖所示,在P型半導(dǎo)體表面有一層薄膜氧化膜,氧化膜上再鍍一層金屬膜。在這層金屬膜上施加一個(gè)正向電壓。進(jìn)一步再添加兩個(gè)n+區(qū)域分別作為源區(qū)和漏區(qū)。這樣我們就有了下面這個(gè)示意圖。
          MOS管的IVcure
          MOS管一般有三個(gè)級(jí),分別是Source源極,Drain漏級(jí)和Gate柵極。
          如果在同一個(gè)N型襯底上同時(shí)制造P溝道MOS管和N溝道MOS管(N溝道MOS管制作在P阱內(nèi)),這就構(gòu)成了CMOS。
          MOS管的IVcure
          MOS管分類(lèi)
          MOS管按照溝道中載流子類(lèi)型分為N溝MOS晶體管和P溝道MOS晶體管。其中N溝道MOS晶體管是襯底為P型,源漏為重?fù)诫s的N=,溝道中載流子為電子;P溝MOS晶體管是襯底為N型,源漏為重?fù)诫s的P+,溝道中載流子為空穴。在正常情況下,只有一種類(lèi)型的載流子在工作,引出也稱(chēng)其單極晶體管。
          按工作模式分增強(qiáng)型晶體管和耗盡型晶體管。增強(qiáng)型晶體管是指若在零柵壓下不存在漏源導(dǎo)電溝道,為了形成導(dǎo)電溝道,需要施加一定的柵壓,也就是說(shuō)溝道要通過(guò)“增強(qiáng)”才能導(dǎo)通;
          而耗盡型晶體管是指器件本身在漏源之間就存在導(dǎo)電溝道,即使在零柵壓下器件也是導(dǎo)通的。若要使器件截止,就必須施加?xùn)艍菏箿系篮谋M。
          按功率分為小信號(hào)管和功率管。其中小信號(hào)管一般是指耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管,主要用于信號(hào)電路的控制;功率管一般是指增強(qiáng)型的場(chǎng)效應(yīng)管,只要在電力開(kāi)關(guān)電路,驅(qū)動(dòng)電路等。
          MOS管的IVcure
          MOS管的IVCurve如下圖所示:
          MOS管的IVcure
          其主要分為4個(gè)區(qū)域,分別為線性區(qū)、飽和區(qū)、截止區(qū)和擊穿區(qū)。
          MOS管的IVcure解析:線性區(qū),對(duì)于固定的Vgs(》Vth),當(dāng)漏壓很小時(shí),漏電流Ids隨漏壓的增加而線性增加。
          但隨著漏壓的增加,漏電流的增加速度不斷減小直到Ids達(dá)到某一恒定的飽和值。在這個(gè)工作區(qū),MOS表現(xiàn)出類(lèi)似于電阻的特性,并且隨著柵壓的變化而變化,即溝道電阻隨著柵壓的增加而減小。這個(gè)區(qū)域也叫可調(diào)電阻區(qū)。
          飽和區(qū),在漏源之間接上電壓Vds,則溝道區(qū)的電位從靠近源端的零電位逐漸升高到靠近漏斷的Vds。而柵極的電位是恒定的,所以在溝道從源極到漏極不同位置上,柵極與溝道之間的電位差是不等的,因而溝道不同位置上的表面電場(chǎng)也是不等的。
          那么溝道中積累的可動(dòng)載流子也隨著電位差從源到漏由多到少,溝道也由厚到薄,溝道的導(dǎo)電能力隨之下降,漏源輸岀電流隨Vds上升的速度降下來(lái),故Ids曲線逐漸趨向平緩。
          當(dāng)Vds進(jìn)一步增大時(shí):Vds>Vgs-Vt,漏端的溝道消失,即漏端的溝道被夾斷,這個(gè)夾斷區(qū)成了漏源之間電流通路上最大的區(qū)域。
          在夾斷后Vds的繼續(xù)增大都集中在降落夾斷區(qū),因此盡管Vds增大了,溝道兩端的電壓降仍是Vgs-Vt不變。這使得經(jīng)過(guò)溝道漂移進(jìn)度夾斷區(qū)的電子流也基本上不隨Vds的增加而改變,Ids也就不變了,所以曲線幾乎變成直線。
          擊穿區(qū),飽和區(qū)之后,若Vds進(jìn)一步增加,晶體管進(jìn)入擊穿區(qū),Ids隨Vds迅速增大,直至引起漏-襯PN結(jié)擊穿,這是由于漏端高電場(chǎng)引起的。
          截止區(qū),在該區(qū)域,Vgs<Vth,因此漏源之間不存在導(dǎo)電溝道,即Ids=0。但實(shí)際上漏源電流并不為0,而是按指數(shù)規(guī)律隨柵壓變化,通常稱(chēng)為弱反型電流或亞域值電流。
          在弱反型時(shí),P型硅表面變?yōu)镹型,但這種反型很弱,表面電子濃度低于體內(nèi)空穴的濃度。由于低的電子濃度沿溝道產(chǎn)生的電場(chǎng)較低,因此亞域值電流主要由載流子擴(kuò)散引起。
          MOSFET的特征
          雙邊對(duì)稱(chēng)。在電學(xué)性質(zhì)上源和漏是可以相互交換的。與雙極型晶體管相比,顯然有很大不同,對(duì)于雙極型晶體管,如果交換發(fā)射極與集電極,晶體管的增益將明顯下降。
          單極性。在MOS晶體管中參與導(dǎo)電的只是一種類(lèi)型的載流子,這與雙極型晶體管相比也顯著不同。在雙極型晶體管中,顯然一種類(lèi)型的載流子在導(dǎo)電中起著主要作用,但與此同時(shí),另一種載流子在導(dǎo)電中也起著重要作用。
          高輸入阻抗。由于柵氧化層的影響,在柵和其他端點(diǎn)之間不存在直流通道,因此輸入阻抗非常高,而且主要是電容性的。通常,MOSFET的直流輸入阻抗可以大于1014歐。
          電壓控制。MOSFET是一種電壓控制器件。而且是一種輸入功率非常低的器件。一個(gè)MOS晶體管可以驅(qū)動(dòng)許多與它相似的MOS晶體管;也就是說(shuō),它有較高的扇出能力。
          自隔離。由MOS晶體管構(gòu)成的集成電路可以達(dá)到很高的集成密度,因?yàn)镸OS晶體管之間能自動(dòng)隔離。一個(gè)MOS晶體管的漏,由于背靠背二極管的作用,自然地與其他晶體管的漏或源隔離。這樣就省掉了雙極型工藝中的既深又寬的隔離擴(kuò)散。
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